双光子灰度光刻技术（2GL）能够以最高的精度对自由曲面微光学、微透镜阵列或衍射微光学进行微纳加工。
这些打印在晶圆上的2.5D微纳结构可作为母版，通过纳米压印光刻技术（NIL）应用于工业复制中。
Quantum X litho系统及其独有的突破性专利2GL®技术将灰度光刻和双光子聚合（2PP）的优势相结合，以实现几乎任意2.5D拓扑图设计并具有光学质量表面和亚微米形状精度特点。
此外，Quantum X litho系统可以处理不同类型的基底，如玻璃载玻片或最大6英寸的硅晶片。
该微纳加工系统专为快速成型，小批量生产和在复制工艺中高效制造母版而设计。
NIL的基本流程包括三个步骤：首先是制作母版印章，用来在复制过程中制作相同复制品结构。
接下来，从母版上模制一个软模，显示母版的精确负面特征。
最终实现的纳米压印模板可以复制和原始结构一模一样的副本。
特殊技术例如步进重复纳米压印工艺(StepandrepeatNIL）可以通过复制一个单模具母版到一个完全填充8英寸母版上来帮助扩展该过程。
该8英寸的母版可以在后续过程中实现高效大批量的复制过程。
Quantum X litho系统可完美地匹配纳米压印光刻技术工艺链，并以最高的精度制作具备2.5D拓扑图母版，如微透镜阵列以及衍射和折射微光学。
【公司定位】纳糯三维Nanoscribe作为双光子灰度光刻微纳加工制造的先驱和创新者，从科研实验室到工业生产现场，Nanoscribe提供全方位高精度增材制造解决方案，显著简化制造流程、提升效率与精度。
【公司资质】Nanoscribe的2GL®技术受中国国家专利保护（专利号：CN110573291B）A2PL技术受中国国家专利保护（CN109997081B）
【主营业务】微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造
【应用领域】微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术
【产品优势】Nanoscribe公司拥有世界领先的双光子无掩模光刻3D打印技术，全新QuantumX系列具有专利双光子灰度光刻(2GL®)，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，A2PL®技术支持自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记，并以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件，确保打印结构与光学轴严格对齐。
【产品评价】Quantum X litho系统代表了新一代对准3D打印技术的发展方向，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，并具备自动对准能力，从而支持可靠、低损耗的光子耦合，以及在传感与成像等应用领域的多样化需求.
【品牌客户】哈佛大学，加州理工学院，牛津大学，斯图加特大学，麻省理工学院等
【技术领域】3D微纳加工、双光子加工
【客户反馈】纳糯三维Nanoscribe的技术在各项关键性突破研究中被提到，出现在2,100多份经同行评审的期刊出版物中
【咨询热线】139-1799-4506（韩先生）